歡迎來到上海巨納科技有限公司網站！歡迎來到上海巨納科技有限公司網站！
13761090949
詳細介紹
羥基化石墨烯量子點 Hydroxylated GQDs
制備方法：水熱法
成分：羥基化石墨烯量子點
外觀：無色溶液
發(fā)光峰：375納米
粒度：6納米
濃度：1毫克/毫升（可達到2mg/ml）
溶液：水和乙二醇的混合物
規(guī)格：100ml
羥基化石墨烯量子點 Hydroxylated GQDs
制備方法：水熱法
成分：羥基化石墨烯量子點
外觀：無色溶液
發(fā)光峰：375納米
粒度：6納米
濃度：1毫克/毫升（可達到2mg/ml）
溶液：水和乙二醇的混合物
規(guī)格：100ml
Emission Photos (1) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots Excited by Natural Light (left) and UV Light (right)
TEM Image (2) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots
Absorption Spectra (3) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots
產品咨詢
聯系我們
上海巨納科技有限公司 公司地址：上海市虹口區(qū)寶山路778號海倫國際大廈5樓 技術支持：化工儀器網掃一掃 更多精彩
微信二維碼
網站二維碼
